WCA系列研磨拋光用氧化鋁
用途:半導(dǎo)體單晶硅片、水晶晶片的研磨拋光及手機(jī)金屬外殼的拋光。
特點(diǎn):
晶體形貌呈板狀、形狀圓滑,不易產(chǎn)生劃痕
粒度分布范圍窄,硬度高,磨削力強(qiáng)
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WCA系列研磨拋光用氧化鋁 用途:半導(dǎo)體單晶硅片、水晶晶片的研磨拋光及手機(jī)金屬外殼的拋光。特點(diǎn):晶體形貌呈板狀、形狀圓滑,不易…
WCA系列研磨拋光用氧化鋁
用途:半導(dǎo)體單晶硅片、水晶晶片的研磨拋光及手機(jī)金屬外殼的拋光。
特點(diǎn):
晶體形貌呈板狀、形狀圓滑,不易產(chǎn)生劃痕
粒度分布范圍窄,硬度高,磨削力強(qiáng)
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